Toshiba заложила новый завод по производству небольших ЖК-дисплеев
Низкотемпературная поликремниевая технология LTPS
Низкотемпературная поликремниевая технология (Low-Temperature Polycrystalline Silicon, LTPS) — метод изготовления тонкоплёночных транзисторов для жидкокристаллических дисплеев. В отличие от традиционных TFT-матриц на аморфном кремнии (a-Si), здесь кремниевый слой подвергается отжигу эксимерным лазером при температуре около 300-400 градусов Цельсия. Это переводит аморфный кремний в поликристаллическое состояние с упорядоченной структурой зёрен.
Поликристаллический кремний обладает подвижностью электронов в сотни раз выше, чем аморфный. Конкретные значения для LTPS достигают 50-200 см/В·с против 0,5-1 см/В·с у a-Si. Благодаря этому транзисторы получаются меньше, а плотность пикселей — выше. Технология позволяет размещать часть управляющей электроники прямо на стеклянной подложке дисплея, сокращая число внешних микросхем-драйверов и ширину рамки вокруг экрана.
Главное ограничение LTPS-матриц — сложность и дороговизна производства. Лазерный отжиг требует прецизионного оборудования, а выход годных панелей ниже, чем у аморфного кремния. На момент 2011 года LTPS применялась преимущественно в дисплеях с диагональю до 10 дюймов: смартфонах, цифровых камерах, портативных медиаплеерах. Для больших телевизионных панелей технология оставалась экономически нецелесообразной.


